光催化氧化設備包括光激發(fā)氧化法(如O3/UV)和光催化氧化法(如TiO2/UV)。光激發(fā)氧化法主要以O3、H202、O2和空氣作為氧化劑，在光輻射作用下產生羥基自由基 。

    光催化氧化設備則是在反應溶液中加入一定量的半導體催化劑，使其在紫外光(UV)的照射下產生HO? ，兩者都是通過HO?的強氧化作用對有機污染物進行處理。其中，氧化效果較好的是紫外光催化氧化法，它的作用原理是讓有機化合物中的C-C、C-N鍵吸收紫外光的能源而斷裂，使有機物逐漸降解，之后以CO2的形式離開體系。

耀先光催化氧化設備

    光催化氧化設備的優(yōu)點：

    1、反應條件溫和、氧化能力強。

    2、在染料廢水、表而活性劑、農藥廢水、含油廢水、氰化物廢水、制藥廢水、有機磷化合物、多環(huán)芳烴等廢水處理中，都能有效地進行光催化反應，使其轉化為無機小分子，達到完全無害化的目的。

   3、光催化反應對許多無機物，如CN-、Au(CN)2-、I-、SCN-、Cr2O72-、Hg(CH3)2、 Hg2+等的去除也有廣闊的應用前景。

    4、可以破壞氰化物，以及電鍍常用的各種有機螯合劑和添加劑，而達無害化。

    5、可以除去各種水中的微生物和霉菌。

    6、光催化氧化設備不僅可以破壞稀溶液(廢水)中的有機物，而且可以破壞濃溶液(槽液)中的有機物。

    7、是一種非常清潔的干處理法，不會引入任何其他物質到體系中。

    8、能徹底破壞有機物而使其轉化為CO2排出，處理的深度比其他方法高。

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